1.  Solvent + sample กรองทุกครั้งด้วย  Filter 0.5mm โดยเฉพาะ Buffer
          2.  pH ที่ใช้กับ Silica base Column ประมาณ 2- 8
          3.  Degas Solvent ที่ผสมแล้วทุกครั้ง
          4.  Limited Presser (สำหรับ Silica base Column )Max   3,500 – 4,000 psi
              Min   100 – 500 psi
          5.  กรณีที่เกิด bubble ใน Pump head pressure จะแกว่ง หรือไม่ขึ้นเลย ในกรณีนี้
              ถ้า   pressure ลดต่ำกว่า Min  เครื่องจะหยุด Remove bubble ออกง่ายๆ โดยใช้
             Syringe ดูดออกที่ purge valve
          6.  กรณีที่ใช้ Buffer หรือ PIC ต้องล้าง System ให้สารเหล่านี้ออกให้หมดด้วยน้ำ
              (1 ml/min , 30 min) เสร็จแล้วจึงล้างด้วย 70% MeOH /H2O เก็บ System &
             Column ใน Solvent นี้
          7.  ห้ามเก็บ System ไว้ในน้ำหรือ Heloginated Hydrocarbon เช่น CHCl3
               ( CHCl3--->COCl2  + HCl  )
          8.  เมื่อเปลี่ยน Mode  ให้ถอด Column ออกแล้ว
              * Rev---> Nor เปลี่ยน  Solvent Polarity  จาก
             H2O--->MeOH /H2O--->MeOH--->CHCL3 /CH2Cl2--->Hexane